VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對于高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態電解質材料，通過5種元素，按16種不同配比組合。
技術參數
概念
 | - 5個濺射頭安裝5種不同材料
- 通過不同的濺射時間，5種材料可以濺射出不同組分的產物，
- 選擇5個等離子射頻電源，可在同一時間濺射5種材料
- 真空腔體中安裝有旋轉樣品臺，可以制作16個樣品
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電源 | 單相220 VAC, 50 / 60 Hz |
射頻電源
 | - 一個13.5MHz,300W自動匹配的射頻電源安裝在儀器上，并與靶頭相連接
- 一個旋轉開關可一次激活一個濺射頭。濺射頭可以在真空或等離子體環境中自動切換
- 可選購多個射頻電源，同一時間濺射多個靶材。
- 所有的濺射參數，都可由電腦設置
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直流電源（可選）
 | - 可選購直流電源，來濺射金屬靶材
- 可配置5個直流或射頻電源，來同時濺射5中靶材
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磁控濺射頭 | - 5個1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層
- 可在本公司額外購買射頻線
- 電動擋板安裝在濺射腔體內
- 設備中配有一循環水冷機，水流量為10L/min
 (1)  (2) (3) (4)
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濺射靶材
 | - 所要求靶材尺寸：直徑為25.4mm,zui大厚度3mm
- 濺射距離: 50 – 80 mm（可調）
- 濺射角度: 0 – 25°（可調）
- 配有銅靶和 Al2O3 靶，用于樣品測試用
- 可在本公司購買各種靶材
- 實驗時，需要將靶材和銅片粘合，可通過導電銀漿粘合（可在本公司購買導電銀漿）
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真空腔體
 | - 真空腔體采用304不銹鋼制作
- 腔體內部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (~ 105 L)
- 鉸鏈式腔門，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口
- 真空度: 4E-5 torr （采用分子泵）
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樣品臺
 | - 直徑為150mm的樣品臺，上面覆蓋一旋轉臺，帶有10mm的孔洞，每次露出一個樣品接收濺射成膜。
- 樣品臺尺寸：Φ150mm,可通過程序控制來旋轉，可制作16種不同組分的薄膜
- 樣品臺可以加熱，zui高溫度可達600℃
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真空泵
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石英振蕩測厚儀（可選）
 | 可選購精密石英振蕩測厚儀，安裝在真空腔體內，實時測量薄膜的厚度，精確度為0.1 Å（需水冷） |
凈重 | 60kg |
質量認證 | CE認證 |
質保 | 一年質保期，終生維護 |
應用注意事項 | - 此款設備設置主要是在單晶基片上制作氧化物薄膜，所以不需要高真空的環境
- 所用氣瓶上必須安裝減壓閥（可在本公司購買），所用Ar氣純度為5N
- 為了得到較好質量的薄膜，可以對基片進行清洗
- 用超聲波清洗機，用丙酮或乙醇作為清洗介質，清除基片表面的油脂，然后在N2氣或真空環境下對基片干燥
- 等離子清洗機，可使基片表面粗糙化，改變基片表面化學活性，清除表面污染物
- 可在基片表面鍍上緩沖層，如Cr, Ti, Mo, Ta,，可改善金屬或合金膜的粘附性
- 濺射一些非導電靶材，其靶材背后必須附上銅墊片
- 本公司實驗室成功地在Al2O3基片上成功生長出ZnO外延膜
- 因為濺射頭連接著高電壓，所以用戶在放入樣品或更換靶材時，必須切斷電源
- 不可用自來水作為冷卻水，以防水垢堵塞水管。應該用等離子水，或冷卻介質
 
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