多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐

簡要描述：OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐，此款設備主要包括混氣裝置，加熱爐，基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統組成。可與準分子激光器配合，進行脈沖激光蒸發鍍膜，而且靶材濺射腔體內可安裝3塊靶材，可依次對3中不同靶材進行激光脈沖蒸發。此款設備特別適合制作多元化合物薄膜。

產品型號：OTF-1200X-PLD
廠商性質：生產廠家
更新時間：2025-02-11
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詳細介紹

OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐，此款設備主要包括混氣裝置，加熱爐，基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統組成。可與準分子激光器配合，進行脈沖激光蒸發鍍膜，而且靶材濺射腔體內可安裝3塊靶材，可依次對3中不同靶材進行激光脈沖蒸發。此款設備特別適合制作多元化合物薄膜。

技術參數

產品特點	可與準分子激光器配合進行PLD制膜腔體內部可安裝多塊靶材，進行多靶激光蒸發腔體內部靶材可旋轉可對基片加熱（zui高溫度可達1200℃）
加熱爐（對基片加熱）	雙層殼體結構，并帶有風冷系統，使殼體表面溫度小于60℃ 加熱元件：摻鉬鐵鉻鋁合金（表面涂有氧化鋯涂層） zui高工作溫度：1200℃ zui大功率：1.2KW
腔體	基片加熱腔體為高純石英材料靶材蒸發腔體為不銹鋼材料靶材蒸發腔體內可安裝3塊靶材，并且靶材可旋轉（轉速：0-30rmp）兩個腔體通過卡箍式法蘭連接（可點擊圖片查看詳細資料）
真空度	10^-2Torr(采用機械泵) 10^-5Torr(采用渦旋分子泵) 可在本公司購買各種真空泵
窗口	采用藍寶石（Al2O3）尺寸：Φ25*0.5mm 允許激光的入射角度為30°-90°
壓力控制系統	一套壓力控制系統安裝在儀器的腔體上，可保證腔體內部的氣壓恒定與混氣系統配合使用，可保證蒸發腔體中各種氣體的分壓恒定
混氣系統	配有2路質量流量計混合系統混氣罐尺寸：Φ80X120mm zui大氣壓：3×106Pa 精度：±1%FS 質量流量計量程：1:1-199sccm 2:1-499sccm 可按客戶要求訂制其他量程的質量流量計可選購3-5路混氣系統
等離子射頻電源（可選購）	可在設備上安裝300W等離子射頻電源，使腔體內的氣體等離子化，達到等離子化激光蒸發反應鍍膜
質保期	一年質保期，終生維護（不包括密封圈、石英腔體和加熱元件）
儀器尺寸	1300mm1260mm820mm
質量認證	CE質量認證所有電器元件（>24V）都通過UL / MET / CSA認證若客戶出認證費用，本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證