小型蒸鍍儀的真空蒸發鍍膜法是在真空條件下加熱蒸發容器中的待蒸發材料，使其原子或分子氣化并從表面逸出，形成蒸汽流，進入社會到基材的方法，或基材表面，并凝結成固體薄膜，特別適用于一些輕金屬的蒸發。同時也可以對樣品進行鍍碳。可加工樣品直徑為50mm，可提供100A鍍膜電流，蒸發溫度可達1800℃，可滿足各種普通金屬和部分非金屬的蒸發。真空室采用高純度石英，具有鍍膜過程易觀察、易清洗等優點；結合分子泵組，可達到5x10-4pa的極限真空，可有效保證蒸鍍膜的純度和附著力。

　　小型蒸鍍儀將待鍍膜的基材或工件置于真空室中，通過加熱使鍍層材料蒸發汽化，并與基材或工件表面沉積，形成薄膜或涂層。配備高級質飛躍真空泵。

　　小型蒸發儀包括以下基本流程：

　　(1)加熱蒸發過程：包括由凝相轉變為氣相的過程。每種蒸發物質在不同溫度下具有不同的飽和蒸氣壓。

　　(2)氣態原子或分子在蒸發源與基板之間的傳輸，即原子或分子在環境大氣中的飛行過程。

　　(3)蒸發是原子或分子在基材表面的沉積。即蒸發、冷凝、成核、核生長，形成連續的膜。由于基板溫度遠低于蒸發源溫度，氣態分子將在基板表面發生從氣態到固態的直接相變。

　　1、將需要濺射的基板材料放入蒸發儀的腔體中。

　　2、根據被蒸發物料選擇金屬蒸發頭/鎢籃或碳蒸發頭，按照儀器操作規程的簧片步驟安裝被蒸發物料。使用碳棒蒸發頭時，一根電極線接儀器后面的黑洞，另一根電極線接紅孔；使用金屬蒸發頭時，一根電極線連接儀器后面的黑洞，另一根電極線連接綠色孔。

　　3、按小型蒸鍍儀操作規程逐步操作儀器，實驗結束時取出樣品。由于長期使用會在腔體周圍沉積一層厚厚的涂層，請根據實際情況及時清潔腔體。但橡膠圈不能用丙酮、乙醇等有機試劑清洗，以免老化造成漏氣，關閉主機電源和電源。切斷儀器的主電源，蓋上儀器。