高真空蒸發(fā)鍍膜儀是一種高真空蒸鍍機(jī)，特別適用于對(duì)氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍。本機(jī)配備四只蒸鍋，每只蒸鍋均配有擋板，如果改變部分配置，還可以實(shí)現(xiàn)有機(jī)材料的蒸鍍，可以滿足發(fā)光器件和有機(jī)太陽(yáng)能電池的研究需求，是一種涂裝效果理想的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。

　　原理：基于電阻蒸發(fā)原理，利用大電流對(duì)鉬舟或鎢藍(lán)或固定支架上的鍍膜材料進(jìn)行加熱，使其在高真空下蒸發(fā)并沉積在鍍膜樣品上，以獲得最佳鍍膜效果。采用大抽速、高壓縮比、自然風(fēng)冷卻復(fù)合分子泵，保證電鍍時(shí)蒸發(fā)源和樣品排出的氣體能被快速抽出；正常情況下，電鍍室?guī)缀鯖](méi)有油汽回流，非常干凈。

　　高真空蒸發(fā)鍍膜儀是將待鍍膜的基材或工件置于真空室中，通過(guò)加熱使鍍層材料蒸發(fā)汽化沉積在基材或工件表面，形成薄膜或涂層的工藝。通過(guò)加熱蒸發(fā)一種物質(zhì)，使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜。熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是最古老的鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)主要用于碳蒸發(fā)，采用超純碳纖維繩為嚴(yán)格的高分辨率掃描電鏡、透射電鏡、EBSD和探針?lè)治鎏峁└哔|(zhì)量的涂層處理。由于碳原子可以直接沉積在樣品表面而無(wú)需橫向移動(dòng)，因此碳可以形成小于1nm的顆粒。

　　高真空蒸發(fā)鍍膜儀適用范圍：電子顯微鏡樣品制備和清潔燈條，以及科研、教學(xué)和企業(yè)實(shí)驗(yàn)活動(dòng)、工藝測(cè)試。采用大抽速、高壓縮比、自然風(fēng)冷卻復(fù)合分子泵，保證電鍍過(guò)程中蒸發(fā)源和樣品排出的氣體能被快速抽出；正常情況下，電鍍室?guī)缀鯖](méi)有油汽回流，非常干凈。