那怎么選擇zui為適合自己的管式爐呢？

　　如果只是固相燒結樣品的話，單溫區管式爐是*足夠的，畢竟不會一根管子去同時燒幾個溫度不同的樣品。

　　單溫區管式爐采用的電阻絲加熱沒使用的是KANTHALA1的電阻絲，電阻均勻，發熱量均衡，而市面上絕大多數的廠家采用的是FE-CR-ALLOYDOPEDBYMO的電阻絲，有時候會出現電阻不均衡，發熱不均勻，從而影響樣品的燒結。配有通訊接口和軟件，可以直接通過電腦控制爐子的各個參數，并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運行情況，爐子的實際升溫曲線電腦會實時繪出，并能把每個時刻的溫度數據保存起來，隨時可以調出。

　　雙溫區管式爐的加熱原件則是采用硅鉬棒與硅碳棒，有兩個加熱區，兩個溫區可以獨立控制，設置不同的溫度。硅鉬棒建議放在高溫區，其zui高溫度可達到1200℃，并可通過調節兩個溫區的控溫程序使爐管內溫場形成一溫度梯度。兩個溫區分別由兩個獨立的溫控系統來控制，而且都為PID30段程序化控溫。此系列管式爐可以用CVD方法來生長納米材料和制備各種薄膜.

　　雙溫區管式爐的升降速率快，是各大高校，研究院，工礦企業做高溫氣氛燒結，氣氛還原，CVD實驗，真空退火的理想設備。